以酸性硫酸鹽鍍銅液為母液,在一定的工藝條件下復合電沉積Cu—nanoA12O3復合鍍層,選用3種典型的表面活性劑對納米顆粒進行分散,即陽離子性表面活性劑(十六烷基三甲基溴化銨CTAB),陰離子性表面活性劑(十二烷基苯磺酸鈉LAS)和非離子性表面活性劑(聚乙二醇PEG6000),通過對比試驗研究了它們對復合鍍層的影響。結果表明,CTAB能有效提高nanoAI2O3的懸浮性,促進納米顆粒與金屬銅的共沉積;LAS能改善鍍層的表面質量,但對納米顆粒的復合量作用不大。
以酸性硫酸鹽鍍銅液為母液,在一定的工藝條件下復合電沉積Cu—nanoA12O3復合鍍層,選用3種典型的表面活性劑對納米顆粒進行分散,即陽離子性表面活性劑(十六烷基三甲基溴化銨CTAB),陰離子性表面活性劑(十二烷基苯磺酸鈉LAS)和非離子性表面活性劑(聚乙二醇PEG6000),通過對比試驗研究了它們對復合鍍層的影響。結果表明,CTAB能有效提高nanoAI2O3的懸浮性,促進納米顆粒與金屬銅的共沉積;LAS能改善鍍層的表面質量,但對納米顆粒的復合量作用不大。
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